GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為晶圓級(jí)光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備，可在200mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。

GL8 MLA Gen2是一種專門為晶圓級(jí)光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備，可在200mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。

該設(shè)備支持從晶圓級(jí)母模具表面自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，工作模具具有精度高，壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)，可以顯著降低大面積納米壓印工藝中模具使用成本。內(nèi)置的點(diǎn)膠系統(tǒng)、APC（主動(dòng)模具基底平行控制）技術(shù)、以及自動(dòng)脫模功能都保證了大面積晶圓級(jí)光學(xué)生產(chǎn)的精度、均勻性（TTV）與良率。同時(shí)，自動(dòng)模具基底對(duì)位系統(tǒng)還可實(shí)現(xiàn)晶圓之間對(duì)位堆疊工藝（WLS-Wafer Level Stacking）。

GL8 MLA納米壓印設(shè)備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。