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在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽(yù)和科學(xué)的管理促進(jìn)企業(yè)迅速發(fā)展首頁-產(chǎn)品系統(tǒng)--納米壓印設(shè)備-GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線
產(chǎn)品型號(hào):
簡要描述:GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動(dòng)納米壓印生產(chǎn)線,集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標(biāo)配天仁微納CLIV(Contact Litho in Vacuum)壓印技術(shù),可實(shí)現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動(dòng)高精度(優(yōu)于10nm )、高深寬比(優(yōu)于10比1 )納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。
廠家實(shí)力
Manufacturer Strength有效保修
Valid Warranty質(zhì)量保障
Quality Assurance產(chǎn)品中心
PRODUCT CATEGORY詳細(xì)介紹
GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動(dòng)納米壓印生產(chǎn)線,集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標(biāo)配天仁微納CLIV(Contact Litho in Vacuum)壓印技術(shù),可實(shí)現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動(dòng)高精度(優(yōu)于10nm )、高深寬比(優(yōu)于10比1 )納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì),用戶可以根據(jù)工藝需求和生產(chǎn)節(jié)奏自由配置清洗、涂膠、烘烤、冷卻、Plasma表面處理、AOI檢測(cè)、Post Cure以及壓印的模塊數(shù)量,達(dá)到生產(chǎn)效率。設(shè)備支持自動(dòng)工作模具復(fù)制、工作模具自動(dòng)更換、自動(dòng)預(yù)處理和壓印、自動(dòng)脫模,整個(gè)工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中進(jìn)行,以保證壓印結(jié)果質(zhì)量。
GL300 Cluster納米壓印設(shè)備適用于DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)(包括斜齒光柵)、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的大規(guī)模量產(chǎn)。
●全自動(dòng)200/300mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印生產(chǎn)線
●確保壓印結(jié)構(gòu)精度與結(jié)構(gòu)填充完整性
●設(shè)備內(nèi)自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具,降低大面積納米壓印模具使用成本
●全自動(dòng)預(yù)處理步驟,包括基材兆聲波清洗、旋涂勻膠、烘烤、冷卻
●自動(dòng)壓印、自動(dòng)曝光固化、自動(dòng)脫模,工藝過程在局部潔凈環(huán)境中自動(dòng)進(jìn)行,以保證壓印質(zhì)量
●標(biāo)配高功率紫外LED面光源(365nm,光強(qiáng)>1000mW/cm2 ),水冷冷卻,特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制,支持各種商用納米壓印材料
●產(chǎn)能可大于100片每小時(shí),適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)(包括斜齒光柵)、生物芯片、LED等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)
●隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料,包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)等工藝流程,幫助客戶零門檻達(dá)到高質(zhì)量的納米壓印水平
兼容基底尺寸 | 200mm、300mm 特殊尺寸可定制 |
支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等 |
上下片方式 | Cassette to cassette全自動(dòng)上下片 |
晶圓預(yù)對(duì)位 | 光學(xué)巡邊預(yù)對(duì)位 |
納米壓印技術(shù) | CLIV技術(shù),適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓 |
納米壓印預(yù)處理工藝步驟 | CLIV技術(shù),適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印、清洗(毛刷、二流體、兆聲波)、旋涂勻膠、加熱烘烤、冷卻、plasma表面處理 |
壓印精度 | 優(yōu)于10納米* |
結(jié)構(gòu)深寬比 | 優(yōu)于10比1* |
殘余層控制 | 可小于10nm* |
紫外固化光源 | 紫外LED(365nm)面光源,光強(qiáng)>200mW/cm2,水冷冷卻(2000mW/cm2類型光源可選配) |
設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制 | 標(biāo)配,外部環(huán)境Class 100,內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10* |
自動(dòng)壓印 | 支持 |
自動(dòng)脫模 | 支持 |
自動(dòng)工作模具復(fù)制 | 支持 |
自動(dòng)工作模具更換 | 支持 |
模具基底對(duì)位功能 | 自動(dòng)對(duì)位(選配) |
Post Cure | 選配 |
AOI在線檢測(cè) | 選配 |
產(chǎn)能 | 可大于100片每小時(shí)* |
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