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在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽和科學(xué)的管理促進企業(yè)迅速發(fā)展首頁-產(chǎn)品系統(tǒng)--納米壓印配套設(shè)備-GL Plasma等離子體清洗設(shè)備
產(chǎn)品型號:
簡要描述:? GL Plasma等離子體清洗設(shè)備數(shù)適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材(軟工作模具基材)。
廠家實力
Manufacturer Strength有效保修
Valid Warranty質(zhì)量保障
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GL Plasma等離子體清洗設(shè)備主要應(yīng)用于活化,提升附著力和清洗等工藝。
●適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材(軟工作模具基材)
●適用于清洗納米壓印基底表面
●適用于納米壓印基底表面增粘、激活、改性
●適用于增加工作模具基材與模具復(fù)制材料粘附性
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